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足球直播这家公司花7500万买二手光刻机

  9月29日早间,晶瑞股份(300655,SH)发布关于购买设备的公告,公司为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目,与SK Hynix(即SK海力士)签署设备进口合同,进口ASML光刻机设备,进口代理方为Singtest Technology PTE.LTD.,总价款为1102.5万美元(约合7500万元人民币)。

  同时,晶瑞股份也披露了其向不特定对象发行可转换公司债券预案,拟募集资金5.50亿元,其中3.13亿元用于集成电路制造用高端光刻胶研发项目。

  9月29日,晶瑞股份大幅高开,上午直接涨停,报收于42.86元/股,上涨19.99%,市值增长13.5亿元,最新市值80.6亿元。

  据悉,晶瑞股份是一家微电子材料的平台型高新技术企业,围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向,主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。

  晶瑞股份表示:“合同的顺利履行可以保障集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性和设备如期到位并投产,对加快项目进度有积极影响。本次交易有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力,有助于落实公司发展战略,提高公司抗风险能力和可持续发展能力。”

  对于晶瑞股份所购买的光刻机,足球直播可以产出多少纳米制程产品,该工作人员表示需要进一步向技术人员确认。待记者下午再度致电,晶瑞股份仍在确认之中。

  目前,主流前道光刻机主要分为i line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机、ArFi光刻机和EUV光刻机,其中技术含量最高、价格最贵的当属EUV光刻机。不同型号的光刻机,使用配套的光刻胶。

  晶瑞股份在可转债发行可行性分析报告中披露,“(公司)旨在通过自主研发,打通ArF光刻胶用树脂的工艺合成路线,完成ArF光刻胶用树脂的中试示范线建设,满足自身ArF光刻胶的性能要求。实现批量生产ArF Immersion(即ArFi)光刻胶的成套技术体系并完成产品定型,技术指标和工艺性能满足45~14nm集成电路技术和生产工艺要求”。

  值得一提的是,2020年6月,晶瑞股份子公司苏州瑞红与合肥长鑫于“长三角一体化发展重大合作事项签约仪式”上签署光刻胶相关合作协议,未来公司将联合华虹半导体、长鑫存储等下游客户共同推进高端光刻胶产品的研发和应用。

  据了解,光刻胶领域长年被日本、欧美企业垄断,目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额,行业集中度较高。国内光刻胶发展起步较晚,生产要集中于PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品,而TFT-LCD、半导体光刻胶等高端产品仍需大量进口。

  目前,适用于6英寸硅片的g线、i线(即i line)光刻胶的自给率约为20%,适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%,而适用于12寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口。

  早在2018年,晶瑞股份就已完成承担的02国家重大专项中i线光刻胶子项研发任务,顺利通过国家验收。上市公司表示,i线光刻胶产品已正常供应中芯国际等有代表性的半导体企业使用。方正证券研报显示,i线nm制程。另外,晶瑞股份完成中试的KrF(248nm)光刻胶也已进入客户测试阶段,可达到0.15um的分辨率。

  简而言之,半导体光刻胶相对低端的产品中,i线光刻胶已经供应客户,KrF(248nm)光刻胶进入客户测试,ArF光刻胶和ArFi光刻胶,晶瑞股份正通过可转债募集资金,拟投入研发。目前已向SK海力士购买二手光刻机用于研究。

  而面板用光刻胶方面,晶瑞股份在2016年与三菱化学在苏州设立了LCD用彩色光刻胶共同研究所,为三菱化学的彩色光刻胶在国内的检测以及国内客户评定检测服务,并于2019年开始批量生产供应显示面板厂家。

  最近“光刻机”成了国内的热词,也在中国人的心里激起了阵痛。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,可以在小小的硅片上集成数十亿个晶体管。生产高端手机用到的芯片就需要用到先进的光刻机,国内的光刻机只能量产14纳米工艺的芯片,7纳米、5纳米工艺的芯片对国内来说还是遥不可及。芯片的生产由外国人控制,国内手机产业的命脉就握在了外国人的手中。

  有人也许想不明白,中国在六十年代就有了、氢弹,为何一个光刻机还要由外国人把控?、氢弹爆炸腾空而起的蘑菇云能够让人感到强烈的震撼,能够给人吐气扬眉的畅快。核武器对中国来说固然重要,不过要认识到在核武器的研制过程中有浓重的政治参与色彩。优质汽车发动机、数码单反、光刻机等的发展没有享受过那样的待遇。

  上世纪70年代末,一贫如洗的中国要建对撞机。一个连温饱都没有解决好的国家要建对撞机,这其中就有政治因素。或许在一些人看起来一个泱泱大国应该有一个大的科学工程。当时国内征求杨振宁的意见时,杨振宁坚决反对中国建造对撞机。因为他知道对撞机是个烧钱的无底洞,更何况那时高能物理就已经没有太多前途。杨振宁那时就建议中国应该加大半导体方面的研究,这样的研究花钱不多,而且还能很快创造出应用价值。

  尽管当时杨振宁反对中国建造对撞机,可中国还是建成了北京正负电子对撞机。杨振宁的反对意见也得到了考虑,对撞机的规模比之前规划的小了一些。北京正负电子对撞机在之后也经历过升级,可上面出的成果与投入严重不成比例,很多业内人士认为北京正负电子对撞机上出的成果几乎为零。

  对撞机的建造及运转势必影响到其他研究领域,经费被对撞机拿走了大头,其他领域就要勒紧裤腰带过日子。如果当时中国拿出更多的资源投入到半导体方面的研究中,今天会是什么样子?我们不能想象,但我们可以问自己几个问题:我们今天的光刻机技术还会比国外的先进水平落后十几年吗?还会为今天被外国人扼住脖颈捶胸顿足吗?

  今天的中国似乎又遇到了同样的问题。国内一些人希望建造长达100千米的超大型对撞机,杨振宁依然持反对意见,反对的意见依然包括对撞机是个烧钱的无底洞,建造对撞机会挤占其他研究领域的经费。今天国内一些手机制造商正因遭到来自国外的制裁相继陷入困境。中国有好看的面子工程,中国也需要有坚实的科技文化底蕴。经验和教训已经给我们上了好几堂课。

  在“国家队”宣布进场之后,全球光刻机巨头ASML(阿斯麦)也准备加快步伐,以打开中国市场。周四(9月17日)最新消息显示,ASML全球副总裁沈波表示,作为全球半导体行业的合作伙伴,ASML将加快在中国市场的布局。

  沈波表示,该公司将用领先的光刻技术,帮助芯片制造商提升性能并降低成本。他还指出,作为一家非常开放的公司,ASML未来将持续投入、扩大布局、培养人才,并与行业的伙伴联手,同中国半导体产业实现共同发展。目前,该公司在华已有12个办公室,在北京和深圳拥有2个研发中心。

  据悉,作为芯片生产最核心的设备,光刻机目前仍是我国芯片生产最大的制约因素。资料显示,7nm以上的芯片工艺,用DUV光刻机就可以生产,7nm以下的工艺,则需要用EUV(引入极紫外光)光刻技术,而ASML则是目前全球唯一一家能够生产EUV光刻机的企业。

  关键时刻,为什么ASML要加速布局中国市场呢?要知道,光刻环节在芯片成本中占比高达30%,因此,ASML决定加速入局全球最大芯片消费市场——中国,并非没有原因。

  而作为光刻机领域重磅级“选手”,ASML加速在华布局,对于中国光刻机的发展,可能也将带来促进作用。事实上,中国也有光刻机,但是技术与ASML的差距仍比较大。虽然2018年底国内在22nm光刻机的光源上取得了突破,但是要想比肩ASML,可能还有很长的路要走。

  不过,本周三(9月16日)中国科学院院长白春礼表示,该院将把光刻机、航空轮胎和轴承钢等对外依赖较大的关键材料或设备列入科研清单,未来将集中力量攻克这些重点技术。在“国家队”和ASML先后跑步进场的情况下,国产光刻机能否尽快迎来“高光时刻”呢?我们拭目以待。

  •   9月29日早间,晶瑞股份(300655,SH)发布关于购买设备的公告,公司为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目,与SK Hynix(即SK海力士)签署设备进口合同,进口ASML光刻机设备,进口代理方为Singtest Technology PTE.LTD.,总价款为1102.5万美元(约合7500万元人民币)。

      同时,晶瑞股份也披露了其向不特定对象发行可转换公司债券预案,拟募集资金5.50亿元,其中3.13亿元用于集成电路制造用高端光刻胶研发项目。

      9月29日,晶瑞股份大幅高开,上午直接涨停,报收于42.86元/股,上涨19.99%,市值增长13.5亿元,最新市值80.6亿元。

      据悉,晶瑞股份是一家微电子材料的平台型高新技术企业,围绕泛半导体材料和新能源材料两个方向,主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。

      晶瑞股份表示:“合同的顺利履行可以保障集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性和设备如期到位并投产,对加快项目进度有积极影响。本次交易有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力,有助于落实公司发展战略,提高公司抗风险能力和可持续发展能力。”

      对于晶瑞股份所购买的光刻机,足球直播可以产出多少纳米制程产品,该工作人员表示需要进一步向技术人员确认。待记者下午再度致电,晶瑞股份仍在确认之中。

      目前,主流前道光刻机主要分为i line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机、ArFi光刻机和EUV光刻机,其中技术含量最高、价格最贵的当属EUV光刻机。不同型号的光刻机,使用配套的光刻胶。

      晶瑞股份在可转债发行可行性分析报告中披露,“(公司)旨在通过自主研发,打通ArF光刻胶用树脂的工艺合成路线,完成ArF光刻胶用树脂的中试示范线建设,满足自身ArF光刻胶的性能要求。实现批量生产ArF Immersion(即ArFi)光刻胶的成套技术体系并完成产品定型,技术指标和工艺性能满足45~14nm集成电路技术和生产工艺要求”。

      值得一提的是,2020年6月,晶瑞股份子公司苏州瑞红与合肥长鑫于“长三角一体化发展重大合作事项签约仪式”上签署光刻胶相关合作协议,未来公司将联合华虹半导体、长鑫存储等下游客户共同推进高端光刻胶产品的研发和应用。

      据了解,光刻胶领域长年被日本、欧美企业垄断,目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额,行业集中度较高。国内光刻胶发展起步较晚,生产要集中于PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等中低端产品,而TFT-LCD、半导体光刻胶等高端产品仍需大量进口。

      目前,适用于6英寸硅片的g线、i线(即i line)光刻胶的自给率约为20%,适用于8英寸硅片的KrF光刻胶的自给率不足5%,而适用于12寸硅片的ArF光刻胶基本依靠进口。

      早在2018年,晶瑞股份就已完成承担的02国家重大专项中i线光刻胶子项研发任务,顺利通过国家验收。上市公司表示,i线光刻胶产品已正常供应中芯国际等有代表性的半导体企业使用。方正证券研报显示,i线nm制程。另外,晶瑞股份完成中试的KrF(248nm)光刻胶也已进入客户测试阶段,可达到0.15um的分辨率。

      简而言之,半导体光刻胶相对低端的产品中,i线光刻胶已经供应客户,KrF(248nm)光刻胶进入客户测试,ArF光刻胶和ArFi光刻胶,晶瑞股份正通过可转债募集资金,拟投入研发。目前已向SK海力士购买二手光刻机用于研究。

      而面板用光刻胶方面,晶瑞股份在2016年与三菱化学在苏州设立了LCD用彩色光刻胶共同研究所,为三菱化学的彩色光刻胶在国内的检测以及国内客户评定检测服务,并于2019年开始批量生产供应显示面板厂家。

      最近“光刻机”成了国内的热词,也在中国人的心里激起了阵痛。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,可以在小小的硅片上集成数十亿个晶体管。生产高端手机用到的芯片就需要用到先进的光刻机,国内的光刻机只能量产14纳米工艺的芯片,7纳米、5纳米工艺的芯片对国内来说还是遥不可及。芯片的生产由外国人控制,国内手机产业的命脉就握在了外国人的手中。

      有人也许想不明白,中国在六十年代就有了、氢弹,为何一个光刻机还要由外国人把控?、氢弹爆炸腾空而起的蘑菇云能够让人感到强烈的震撼,能够给人吐气扬眉的畅快。核武器对中国来说固然重要,不过要认识到在核武器的研制过程中有浓重的政治参与色彩。优质汽车发动机、数码单反、光刻机等的发展没有享受过那样的待遇。

      上世纪70年代末,一贫如洗的中国要建对撞机。一个连温饱都没有解决好的国家要建对撞机,这其中就有政治因素。或许在一些人看起来一个泱泱大国应该有一个大的科学工程。当时国内征求杨振宁的意见时,杨振宁坚决反对中国建造对撞机。因为他知道对撞机是个烧钱的无底洞,更何况那时高能物理就已经没有太多前途。杨振宁那时就建议中国应该加大半导体方面的研究,这样的研究花钱不多,而且还能很快创造出应用价值。

      尽管当时杨振宁反对中国建造对撞机,可中国还是建成了北京正负电子对撞机。杨振宁的反对意见也得到了考虑,对撞机的规模比之前规划的小了一些。北京正负电子对撞机在之后也经历过升级,可上面出的成果与投入严重不成比例,很多业内人士认为北京正负电子对撞机上出的成果几乎为零。

      对撞机的建造及运转势必影响到其他研究领域,经费被对撞机拿走了大头,其他领域就要勒紧裤腰带过日子。如果当时中国拿出更多的资源投入到半导体方面的研究中,今天会是什么样子?我们不能想象,但我们可以问自己几个问题:我们今天的光刻机技术还会比国外的先进水平落后十几年吗?还会为今天被外国人扼住脖颈捶胸顿足吗?

      今天的中国似乎又遇到了同样的问题。国内一些人希望建造长达100千米的超大型对撞机,杨振宁依然持反对意见,反对的意见依然包括对撞机是个烧钱的无底洞,建造对撞机会挤占其他研究领域的经费。今天国内一些手机制造商正因遭到来自国外的制裁相继陷入困境。中国有好看的面子工程,中国也需要有坚实的科技文化底蕴。经验和教训已经给我们上了好几堂课。

      在“国家队”宣布进场之后,全球光刻机巨头ASML(阿斯麦)也准备加快步伐,以打开中国市场。周四(9月17日)最新消息显示,ASML全球副总裁沈波表示,作为全球半导体行业的合作伙伴,ASML将加快在中国市场的布局。

      沈波表示,该公司将用领先的光刻技术,帮助芯片制造商提升性能并降低成本。他还指出,作为一家非常开放的公司,ASML未来将持续投入、扩大布局、培养人才,并与行业的伙伴联手,同中国半导体产业实现共同发展。目前,该公司在华已有12个办公室,在北京和深圳拥有2个研发中心。

      据悉,作为芯片生产最核心的设备,光刻机目前仍是我国芯片生产最大的制约因素。资料显示,7nm以上的芯片工艺,用DUV光刻机就可以生产,7nm以下的工艺,则需要用EUV(引入极紫外光)光刻技术,而ASML则是目前全球唯一一家能够生产EUV光刻机的企业。

      关键时刻,为什么ASML要加速布局中国市场呢?要知道,光刻环节在芯片成本中占比高达30%,因此,ASML决定加速入局全球最大芯片消费市场——中国,并非没有原因。

      而作为光刻机领域重磅级“选手”,ASML加速在华布局,对于中国光刻机的发展,可能也将带来促进作用。事实上,中国也有光刻机,但是技术与ASML的差距仍比较大。虽然2018年底国内在22nm光刻机的光源上取得了突破,但是要想比肩ASML,可能还有很长的路要走。

      不过,本周三(9月16日)中国科学院院长白春礼表示,该院将把光刻机、航空轮胎和轴承钢等对外依赖较大的关键材料或设备列入科研清单,未来将集中力量攻克这些重点技术。在“国家队”和ASML先后跑步进场的情况下,国产光刻机能否尽快迎来“高光时刻”呢?我们拭目以待。

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